宮田 成紀 , 福島 弘之 , 栗木 礼二 , 木下 晶雄 , 衣斐 顕 , 山田 穣 , 塩原 融 （SRL）；加藤 丈晴 , 平山 司 （JFCC）
miyata*istec.or.jp
Abstract: 我々のグループではIBAD基板をベースにした実用Y系線材の開発を行っているが、産業化を目指すには現在およそ1m/hというIBADプロセスの製造速度の向上が必須である。そこで10nmオーダーという薄い膜厚で高い配向性が得られる酸化マグネシウム（MgO）を用いた高速プロセスの確立を目指し、前後の中間層も含めた基板プロセスの検討を行っている。今回はその経過について報告する。