超伝導マグネトロンスパッタ装置によるMo/Si多層膜の製作とその特性

Growth of Mo/Si Multi-layered Thin Films by Superconducting

菊地 北斗 ， 長浜 大作 ， 清水 英彦 ， 岡 徹雄 （新潟大） ； 山口 隆 （科学技術振興機構） ； 生田 博志 （名大） ； 柳 陽介 ， 伊藤 佳孝 （イムラ材研） ； 友藤 哲也 （ニコン） ； 水谷 宇一郎 （豊田理化学研究所） ； 松田 隆 （イーアンドエクスレイ）
t06e058h*mail.cc.niigata-u.ac.jp
Abstract:　 磁場発生源にRE123系超伝導バルク磁極を使用した超伝導マグネトロンスパッタ装置では、超伝導磁極の高磁場によりターゲット表面にプラズマを集中させることができ、これによって放電が高真空でも持続することが可能となる。また高真空で成膜が可能になることにより、ターゲット基板間距離（Dst）を大きくして成膜することができる等の利点を得る事ができる。 今回、二元ターゲットをもつ超伝導マグネトロンスパッタ装置を用いて成膜したMo/Si多層膜を、X線反射率法、AFM、XRDを用いて評価した。この薄膜と従来のマグネトロンスパッタ装置による薄膜との比較について報告する。