Increase in thickness of co-doped Y123 films by FF-MOD method starting from oxides
相楽 和豊, 畠 直輝, 元木 貴則, 下山 淳一 （青学大）； 吉原 健彦, 本田 元気, 小林 慎一 （住友電工）
Abstract:RE123薄膜作製方法の一つであるフッ素フリー有機金属塗布熱分解(FF-MOD)法は、RE123相の生成が非常に速く、常圧下の簡便な焼成装置のみで作製することができるため、最も工業化に適した手法である。しかし、ピンニングセンターが少なく、他の手法に比べて磁場中Jcが低いことが課題である。我々のこれまでの研究により、Y123薄膜に対するClと不純物金属M(M = Zr, Sn, Hf)の共添加により、膜中に生成する非超伝導のBaMO3(BMO)微粒子が有効なピンニングセンターとして働き、磁場中Jcが向上することがわかっている。本研究では、酸化物原料から調製した溶液を用いたFF-MOD法による共添加RE123薄膜の厚膜化による臨界電流の向上を試みた。(Cl, M)共添加Y123薄膜はIBAD基板上に原料溶液を塗布し、仮焼、本焼成することにより作製し、厚膜化はこの工程を繰り返すことにより行った。また、Y211を含む溶液を用いて、同様に(Cl, Y211)共添加Y123薄膜も作製したので、その物性についても 報告する。