Zrをパターンニングした基板上に形成したREBa₂Cu₃Oy薄膜の臨界電流特性

Critical current characteristics of REBa₂Cu₃Oy thin films deposited on a Zr-patterned substrates


関戸 真矢, 白土 裕一朗 (福岡工大); 松本 明善, 立木 実 (NIMS); 井上 昌睦 (福岡工大)


Abstract:REBa₂Cu₃Oy(REBCO)線材の交流損失の低減には線材の細線化が有効である.細線化の手法の一つとして超電導層の成膜前に基板にあらかじめ金属(Zr等)を線状にパターンニングし,その後超電導層を成膜することで細線分離を行う手法に取り組んでいる.今回は細線形成したZrに対して平行及び垂直なマイクロブリッジを作製し,それぞれの臨界電流特性を調べたのでその結果について報告する.