Effects of impurity doping for Y123 thin films by FF-MOD method starting from oxides
相楽 和豊, 堀口 佳吾, 元木 貴則, 下山 淳一 （青学大）； 吉原 健彦, 本田 元気, 小林 慎一 （住友電工）
Abstract:RE123薄膜作製方法の一つであるフッ素フリー有機金属塗布熱分解(FF-MOD)法は、RE123相の生成が非常に速く、常圧下の簡便な焼成装置のみで作製することができるため、最も工業化に適した手法である。しかし、ピンニングセンターが少なく、他の手法に比べて磁場中Jcが低いことが課題である。我々のこれまでの研究により、Y123薄膜に対するClと不純物金属M(M = Zr, Sn, Hf)の共添加により、膜中に生成する非超伝導のBaMO3(BMO)微粒子が有効なピンニングセンターとして働き、磁場中Jcが向上することがわかっている。本研究では、酸化物原料より調製した溶液を用いたFF-MOD法によるY123薄膜の臨界電流特性に及ぼす不純物金属添加効果の解明を目的とした。Zr, Hfの塗布型材料を用いて、2軸配向中間層を有するIBAD基板上に(Cl, M)共添加Y123薄膜を作製した、物性を評価した結果について報告する。