Zrをパターンニングした基板上に形成したREBa₂Cu₃Oy薄膜の臨界電流特性(2)

Critical current characteristics of REBa₂Cu₃Oy thin films deposited on a Zr-patterned substrates (2)


関戸 真矢, 白土 裕一朗 (福岡工大); 松本 明善, 立木 実 (NIMS); 井上 昌睦 (福岡工大)


Abstract:REBa₂Cu₃Oy(REBCO)線材の交流損失の低減には線材の細線化が有効である.細線化の手法の一つとして超電導層の成膜前に基板にあらかじめ金属(Zr等)を線状にパターンニングし,その後超電導層を成膜することで細線分離を行う手法に取り組んでいる.前回はZrの上部や側面に堆積するREBCO膜の電気的特性について調べるために,幅106µmのZrを直線状に形成し、このZrを含むマイクロブリッジのI-V特性を測定することで臨界電流特性の変化について検証した.今回は臨界電流の温度・磁場依存性についても調べたのでその結果について報告する.