TDGL simulation analysis of flux pinning properties of REBCO thin film wire
松本 要, 掘出 朋也, 吉田 隆 （名大）
Abstract:REBCO薄膜線材は、低温から中温領域において優れた高磁場特性を有している。そのため幅広い磁場応用への展開が期待されている。しかしその臨界電流特性は微細な量子化磁束の磁束ピンニング機構によって決まっているが、その特性向上は経験的に進められており、必ずしも最適条件は明らかとはなっていない。そこで本研究では、計算機上においてREBCO薄膜中の微細組織を再現し、時間依存GL(TDGL)方程式を適用することで、持続ピンニング特性をシミュレートし、最適なピンニング点の分布条件を明らかにすることを目的とした。