Irreversibility Field of Bi2223 Tapes Sintered under Low Partial Oxygen Pressure
佐藤 海斗, 元木 貴則, 下山 淳一 （青学大）； 中島 隆芳, 山出 哲 （住友電工）
Abstract:これまで、我々はBi2223線材の焼成雰囲気中の酸素分圧を従来の8 kPaから低い、2～3 kPaに下げることによってBi2223相生成が促進されることを報告してきた。また低酸素分圧下焼成によって不純物相の粒成長が抑えられることも示してきた。低酸素分圧下での焼成ではPbの固溶限界が高濃度側にシフトすることから、低温、磁場中の臨界電流特性が改善することが期待できる。本研究では低酸素雰囲気下で焼成を行ったBi2223線材の磁場中の臨界電流特性を調べており、特に不可逆磁場と焼成条件、酸素アニール条件との関係に注目して実験を行っている。講演では中温域（20～60 K）におけるBi2223線材の不可逆磁場の改善指針についても議論する。