Post Annealing Condition and In-Field Critical Current Properties of Bi2223 Tapes
佐藤 海斗, 元木 貴則, 下山 淳一 （青学大）； 中島 隆芳, 山出 哲 （住友電工）
Abstract:これまで我々はBi2223線材を従来の雰囲気である酸素分圧8 kPaから低い2 – 3 kPaにすることによってBi2223相生成が促進され、Bi2223相、及び不純物相の粒成長抑制に有効であることを示してきた。低酸素分圧下の焼成はPb固溶限界が高濃度側にシフトすることから磁場中臨界電流特性の改善も期待できる。本研究ではBi2223線材に対して雰囲気制御が容易な大気圧中低酸素分圧下で2次焼成を行い、その焼成条件、及び後熱処理条件と磁場中臨界電流特性の関係の解明を目指している。今回の講演では熱処理条件と中温域 (20 ~ 60 K)における磁場中臨界電流特性の関係について議論する。