Fabrication of Metal-Insulator Transition Oxside Films for Quench Protection of HTS Coils
山田 寛之, 土屋 雄司 （名大）； 一野 祐亮 （愛工大）； 吉田 隆 （名大）
Abstract:HTSコイルはクエンチ保護が課題となっており、ターン間を絶縁しないNIコイルが提案されている。今回、我々はNIコイルの磁場安定性向上のため金属-絶縁体(Metal-Insulator: M-I)転移酸化物によりターン間を絶縁するM-I絶縁コイルを提案する。M-I転移酸化物は低温では抵抗率が高いが、温度上昇に伴い抵抗率が急激に低下する性質を示す。本研究ではPLD法によってM-I転移酸化物(Pr1-xYx)1-yCayCoO3(PYCCO)薄膜を異なる条件下で成膜し、M-I特性の評価を行った。当日は異なる基板上に成膜されたPYCCO薄膜の表面構造、及び結晶構造について報告する。