Effects of post heat-treatment for fluorine-free MOD Y123 thin films
権藤 紳吉, 池田 周平, 元木 貴則, 中村 新一, 下山 淳一 （青学大）； 本田 元気, 永石 竜起 （住友電工）
Abstract:様々なRE123薄膜の作製方法の中でもフッ素フリーMOD法は均質で平坦な表面を持つ薄膜が短時間で得られるため工業化に適した手法である。析出する酸ハロゲン化物がY123と高い格子整合性を有するために、原料溶液にハロゲン添加することは再現性よく高特性な薄膜の作製に有効であることが分かっている。また、焼成膜の上に再度塗布・仮焼・焼成を繰り返した2回焼成による厚膜化を行うことがIc改善に有効であることを報告してきた。今回我々は微細組織観察により、2回焼成法での厚膜化は薄膜表面の不純物の生成を抑制し、有効なピン止め中心となる積層欠陥の生成を伴うという高Ic化の起源を見出した。また、焼成膜に対して適切な雰囲気下で後熱処理を行うことで粒間特性の向上、有効なピン止め中心となる積層欠陥の導入が可能であることも報告する。