Evaluations of in-field distribution of local critical current in REBCO coated conductors using ISD process
鈴木 匠, 山内 勇輝, 野田 将平, 東川 甲平 （九大）； Bauer Marku （THEVA）； 木須 隆暢 （九大）
Abstract:長尺REBCO線材の中間層の成膜法はIBAD(Ion-Beam Assisted Deposition)法が主流であるが、ISD(（Inclined Substrate Deposition)法による長尺線材も作製されており、基板を傾けて製膜する製法に由来した、テープ面に対する結晶配向方向が垂直から傾く特徴などがある。一方、長尺線材の機器応用のためには、長尺に亘っての局所臨界電流の空間均一性を把握することが重要となる。しかし、ISD法による長尺線材の実用環境に近い高磁場での特性は明らかとなっていない。本研究ではリール式連続磁化計測システムを用いてISD法による長尺REBCO線材の局所臨界電流分布の外部磁場依存性の評価を行った。その結果、77Kにおいて、各磁場での平均臨界電流で規格化した局所臨界電流分布は空間分布に大きな磁場依存性は無いことが分かった。よって、77 Kにおいては局所欠陥などによる有効断面積の変化が局所臨界電流の変化の主因であると考えられる。