Fabrication of Thermally‒Assisted Nanostructured Devices Using NbTiN Thin Films
田中 雅光, 鈴木 雅斗, 丸山 晃平, 佐野 京佑, 赤池 宏之, 藤巻 朗 （名大）
Abstract:ナノ構造を用いた熱援用超伝導デバイスであるナノクライオトロン（nTron）は、ジョセフソン接合と比べサブボルトオーダに及ぶ高い出力電圧を持ち、半導体デバイスとのハイブリッド集積回路への応用が期待される。本稿では、下地基板によらず優れた超伝導性が得られるNbTiNを用い、膜厚50nm、最小線幅200nm程度のnTronを作製して特性の評価を行ったので報告する。12K前後の動作温度で熱的遷移に基づくと思われる電圧出力を確認しており、詳細な特性評価を進めている。