Effects of halogen addition for fluorine-free MOD processed Y123 thin films deposited on metal substrates
池田 周平, 元木 貴則, 下山 淳一 （青学大）； 本田 元気, 永石 竜起 （住友電工）
Abstract:様々なRE123薄膜の作製方法の中でもフッ素フリーMOD法は均質で平坦な表面を持つ薄膜が短時間で得られるため工業化に適した手法である。これまで我々は原料溶液へのCl添加によりY123の2軸配向結晶成長を促進し再現性よく結晶性の高い薄膜が得られることを報告してきた。
今回は原料溶液にClやBrを添加することで、従来よりも50℃程度低い焼成温度でも金属Clad基板上にY123配向膜を作製できることを見出したので報告する。さらに、焼成後の薄膜の上に再度溶液の塗布・仮焼・焼成を行う2回焼成法を用いた厚膜化によって、ハロゲン添加薄膜において100 A cm-1 (77 K, ~0 T)を超える高いIcを達成しており微細組織と合わせて議論する。