Estimation of Scattering Phenomenon of Trapped Field of HTS Bulk Magnet Activated in Pulsed Field Magnetization Process
岡 徹雄, 太田 博之, 下田 竜也, 原 健介, 小川 純, 福井 聡, 佐藤 孝雄 （新潟大）； 横山 和哉 （足利工大）
Abstract:強磁場を捕捉する高温超伝導バルク磁石を広く応用するために、コンパクトで簡便なパルス強磁場を用いた着磁工程を考案し、この磁場印加過程における磁束侵入の挙動とその後の磁場捕捉性能を詳細に測定して評価した。Gd123系バルク磁石に対しパルス磁場の印加によって侵入する磁束量子は、その温度や磁場強度、試料形状などにより特徴的な挙動を示し、その運動によって生じる発熱によって、侵入した磁場を保てずに瞬間的な散逸現象を示す。この特異な現象を６T以上の強磁場領域で詳細に観測し、それ以上のフラックスフォローによる磁場減少とは異なった挙動として評価した。磁場の散逸が起こる領域よりも強磁場領域ではより顕著な発熱により磁束は定常的な流出を呈し、もっとも効率的で、より強磁場の捕捉条件がこの散逸現象が発現する条件の近傍にあることを示唆した。