Nb standard fabrication process using PECVD-SiO2 films
永沢 秀一, 佐藤 哲朗, 日高 睦夫 （産総研）
Abstract:我々は、超伝導集積回路のためのNb標準プロセスの開発を行ってきた。従来、このNb標準プロセスの層間絶縁膜は、バイアススパッタで形成したSiO2膜を使用してきたが、今回、PECVD（plasma-enhanced chemical vapor deposition）のSiO2膜を適用したNb標準プロセスを開発した。適用に際してのPECVD膜の問題点と対策、及び測定結果について報告する。