Effects of Cl-doping on Jc and microstructures of Y123 films prepared by fluorine-free MOD method
元木 貴則, 下山 淳一, 山本 明保, 荻野 拓, 岸尾 光二, 幾原 雄一 （東大）； 堀井 滋, 土井 俊哉 （京大）； 本田 元気, 永石 竜起 （住友電工）
Abstract:フッ素フリーMOD法は原料にフッ素を含まない溶液を用いた化学的手法である。均質で平坦な表面を持つRE123薄膜が短時間の焼成で得られることから工業化に適した手法であると言える。これまでの研究から、原料溶液にClドープを行うことが配向度の改善および高Jc化に有効であることが明らかになっている。今回は、ClドープやClと不純物金属の共ドープを行った薄膜が溶液法においてc軸相関ピンの存在を示唆する特異なJcの角度依存性を示すことを微細組織とあわせて報告する。さらに、ClドープがY123薄膜材料の成膜条件に及ぼす効果についても報告する。