Microstructure and Critical Current Density of New Alloy-Barriered Nb3Al Wires
菊池 章弘 （NIMS）； 土屋 清澄 （KEK）； 飯嶋 安男 （NIMS）
Abstract:最近、Nb3Al線材のフィラメント間母材を合金化するユニークな手法を提案した。2,000℃の急熱急冷処理でNbAl過飽和固溶体フィラメントを合成するとともに、フィラメント間母材もNbあるいはTaに強磁性金属が固溶した合金を生成させる。NbあるいはTaに強磁性金属が固溶すると、アブリコソフーゴルコフ理論に基づいて、NbあるいはTaの超伝導特性は著しく劣化して、NbAlフィラメント間結合を抑制する。また、フィラメント間母材の合金化は、NbあるいはTaの固溶強化も同時に達成し、磁気的不安定性の改善とともに線材強度の増加にも寄与することが見込まれる。本講演では、フィラメント間母材のNbにCuNiを固溶させた線材の微視的組織と最大18Tの磁場中で通電測定した臨界電流密度について報告する。