Growth process of YBa2Cu3Oy film with BaZrO3 by electric resistance measurement
寺西 亮, 西村 章吾, 山田 和広, 金子 賢治 （九大）； 吉積 正晃, 和泉 輝郎 （SRL）
Abstract:磁束ピン止め点としてBaZrO3を導入したYBa2Cu3Oy膜を熱処理する際に、膜の電気抵抗の変化をその場観察することにより膜の結晶成長過程を考察した。本手法によって熱処理条件に対する膜の成長速度や成膜終了時間が簡易的に評価できることが示され、本法と電子顕微鏡やX線回折による構造解析とを組合わせることにより、熱処理条件に対する磁束ピン止点や母相の生成挙動への影響を効果的に考察できることが分かった。