捕捉磁場特性の改善を目的とした細孔バルク体の着磁特性の評価

Evaluation of a bulk superconductor with a small hole for improvement of trapped field performance by pulsed field magnetization


横山 和哉, 五十嵐 僚太, 戸ヶ崎 亮介 (足利工大); 岡 徹雄 (新潟大)


Abstract:超伝導バルク体の大型化・高特性化により,バルス着磁で高磁場を捕捉させることが難しくなってきている。これまでに磁束の侵入を容易にするため,バルク体に微細加工を施す方法を考案し,パルス着磁後の捕捉磁場分布を評価してきた。これまでは,磁場侵入を容易にすることを考慮して試料中心近くまで4個の細孔を加工したが,捕捉磁場が低下してしまう結果となってしまった。本文は,磁場侵入を容易にすることと捕捉磁場を低下させないことを目標に,試料の外周近くに1個のみ細孔を加工し,パルス着磁実験を行ったので,その結果を報告する。