Ti添加Gd123バルク体及びMOD法Gd123薄膜の臨界電流密度特性

Jc properties of Ti-doped Gd123 bulks and thin films fabricated by MOD method


久保 勇人, 三浦 大介, 水口 佳一 (首都大); 喜多 隆介, 鈴木 寛 (静岡大)


Abstract:本研究では、Tiを添加したGd123バルク体及びMOD法で作製したGd123薄膜の臨界電流密度特性を調査した。