Effects of Cl-doping for Y123 thin film materials prepared by FF-MOD method
元木 貴則, 下山 淳一, 山本 明保, 荻野 拓, 岸尾 光二 （東大）； 堀井 滋, 土井 俊哉 （京大）； 本田 元気, 永石 竜起 （住友電工）； 黒川 哲平 （東洋鋼鈑）
Abstract:RE123薄膜の作製法の中でもフッ素フリーMOD（FF-MOD）法は原料にフッ素を用いない手法である。非常に均質で平坦な表面を持つ薄膜がごく短時間の焼成で得られることから工業化に適した手法であると言える。これまでの研究から原料溶液にClドープを行うことがRE123相の配向補助および高Jc化に有効であることが明らかになっている。今回は、ClドープがJcの磁場印加角度依存性に及ぼす効果を微細組織とあわせて報告する。さらにClドープがY123配向膜の生成温度を大きく下げる効果についても報告し、ClドープFF-MOD法Y123薄膜材料の可能性について議論する。