Measurement of distribution for Nb/AlOx/Nb Josephson junction critical current density in three inch wafer
日高 睦夫, 永沢 秀一, 佐藤 哲朗 （産総研）
Abstract:リソグラフィー・エッチングやノイズの影響が小さな大面積接合を用いてNb/AlOx/Nb接合臨界電流密度のウエハ内分布を測定した。50μ角の100個シリーズ接合臨界電流値の中央値から臨界電流密度を求めた。この100個シリーズ接合を5mm角の1チップ上に15個配列した。測定は3インチウエハの対角線上にある約1cmずつ離れた5チップに対して行い、複数チップの測定結果から3インチウエハ上の臨界電流密度分布を求めた。