IRレーザーアシストCVD法を用いたYBa2Cu3O7-d薄膜の高速成膜プロセスの開発

Rapid Fabrication of YBa2Cu3O7-d Thin Films by IR-Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition


宮田 成紀, 松瀬 研也, 衣斐 顕, 和泉 輝郎, 塩原 融 (SRL); 加藤 丈晴, 平山 司 (JFCC)


Abstract:IRレーザーアシストCVD法を用いたYBCO薄膜の高速成膜プロセスの開発を行っている。これまでに1MA/cm^2以上の高いJc特性を保ちながら、成膜レートを58um/hまで高めることに成功していた。今回、原料供給量をさらに増加させ、成膜条件の最適化を行った結果、同様に1MA/cm^2のJc特性を保持しながら、97 um/hという高い成膜レートを達成したので報告したい。この成膜レートは、1ミクロン厚のYBCO膜が40秒足らずで成膜できる値である。また、原料供給量と成膜レートの比例関係は依然保たれているため、この手法によりさらに高い成膜レートの達成が期待できる。