Superconductivity of NbN self-assembled nanostructure in Si-Trench.
杉本 憲昭, 元廣 友美 （豊田中央研）
Abstract:Si基板を用いて、フォトプロセスによりSiトレンチ構造を形成した。そのトレンチSi壁表面には、周期的なエッチングを繰り返すSi Deep RIE処理によって引き起こされた周期的な凹凸構造ができている。今回、そのSiトレンチ内へNbNをスパッタ法により成膜した。その結果、もともとあるSi壁表面の凹凸に合わせて、NbNが細線形状に形成されることがわかった。NbN細線は幅６００nmで隣接する細線とは極薄部を通して接続された平行線が多数並んだ構造となっている。細線長手方向と垂直方向では、超伝導特性に大きな違いが見られた。