Nd:YAGレーザーによるPLD法を用いた(Bi.Pb)2223超伝導体薄膜の作製

Fabrication of (Bi,Pb)2223 superconducting thin films by Nd:YAG pulsed laser deposition method.

高平俊輔, 秋田純弥, 一野祐亮, 吉田隆（名大）

Abstract:(Bi,Pb)₂Sr₂Ca₂Cu₃O_y超伝導体は高いT_cを持つため、実用的超伝導線材として市販されている。しかし、磁場中において臨界電流密度J_cが低い課題点を持つ。そこで、本研究では結晶粒界が少なくJ_cの向上が見込める(Bi,Pb)2223エピタキシャル薄膜の作製を目的とした。(Bi,Pb)2223薄膜はNd:YAGレーザーによるPLD法で成膜した。成膜後Pbの導入及び結晶性の向上のために、2枚の薄膜表面を合わせて(Bi,Pb)2223焼結体容器内に置き、ポストアニールを行った。ポストアニール温度は833℃と一定の値として、アニール時間を変更させることにより(Bi,Pb)2223薄膜の作製を試みた。結果として、アニール時間が20時間の場合においてBi2223相からのX線回折ピークが最も強く確認され、作製した薄膜のT_cは100 K程度であることが確認された。当日は、J_cやT_c-Bについても評価する。