Relationship between microstructure and heat treatment conditions of Bi,Pb-2223 thin films fabricated by sputtering methods
梶原 貴人, 嶋田 雄介, 波多 聰, 池田 賢一, 中島 英治 （九大）； 土井 俊哉 （京大）； 松本 明善, 北口 仁 （NIMS）
Abstract:我々のグループでは、Bi,Pb-2223超伝導体の生成プロセスや超伝導電流経路等の基礎的な知見を得るために薄膜の研究を行っている。
これまでに、スパッタ法で作製したBi-2223薄膜をBi,Pb-2223ペレット内で熱処理を行うことで良質なBi,Pb-2223薄膜が得られている。
本研究では、熱処理時間、または熱処理温度の異なるBi,Pb-2223薄膜の微細組織を観察することにより、熱処理条件と微細組織との関係を考察した。