基板界面におけるFe11系薄膜とCaF2基板の反応

The reaction between Fe11-based films and CaF2 substrates at the interface


一瀬 中, 塚田 一郎, 花輪 雅史, 小宮 世紀 (電中研); 秋池 孝則, 鍋島 冬樹, 今井 良宗, 前田 京剛 (東大)


Abstract:CaF2基板上にPLD法を用いてFe(Te,Se), FeTe, FeSe薄膜を作製し,透過型電子顕微鏡により基板界面近傍の微細構造観察,元素分析を行った。得られた結果を基に,基板界面における薄膜とCaF2基板の反応について議論する。