FF-MOD法によるCu-rich Y123薄膜の作製

Fabrication of Cu-rich Y123 thin films by FF-MOD method


元木 貴則, 下山 淳一, 石渡 悠人, 山本 明保, 荻野 拓, 岸尾 光二 (東大)


Abstract:薄膜作製法の一つであるフッ素フリーMOD(FF-MOD)法は原料にフッ素を用いないため環境負荷が小さく、低コストであることから工業化に適している。しかし、他の手法であるTFA-MOD法などに比べ、有効なピンニングセンターが導入されておらず、高Jcを示す薄膜が得られていない。そこで、我々はCu-richな組成からY123薄膜を作製し、熱処理条件を工夫することで有効なピンニングセンターの導入を試みている。学会ではCu過剰Y123薄膜の微細組織および磁場中のJc特性改善について報告する。