Fabrication of Thick YBa2Cu3O7-d Films by IR-Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition
宮田 成紀, 松瀬 研也, 衣斐 顕, 和泉 輝郎, 塩原 融 （SRL）
Abstract:成膜速度の向上を目指し、IRレーザーアシストCVD法のYBCO線材プロセスへの適用を試みた。本成膜法は、CVD法を用いた成膜プロセス中に膜表面へのIRレーザーの同時照射を行うものである。これまでに、Jc > 1MA/cm2の高い電流特性を保持しながら58um/hの高速成膜に成功している。
今回、線材プロセスとしての有効性を検証するため、多層成膜により厚膜試料を作製し、Ic特性の評価を行った。その結果、４層成膜により作製した2.1um厚の試料において、224AのIc値が得られた。また、成膜中の試料表面からの放射輝度をパイロメータにより測定し、電流特性との相関を議論した。