Microstructure in MgB2 thin film prepared on Al tapes
嶋田 雄介, 久保田 雄貴, 波多 聰, 池田 賢一, 中島 英治 （九大）； 土井 俊哉 （京大）； 吉原 和樹 （鹿児島大）
Abstract:最近電子ビーム蒸着法によりAlテープ上に作製されたMgB2薄膜において、特に高磁場領域においてSi上に生成したものと比べて臨界電流密度(Jc)特性が大きく改善しており、新たな線材製造方法として期待されている。本研究では、基板の影響について考察するため、Alテープ上に作製したMgB2薄膜の微細組織観察を行い、過去に我々のグループが行ったSi基板上のMgB2薄膜との組織の比較を行った。