Research and Development of Non-contact Spin Processor Applying Superconducting Magnetic Levitation for Cleaning Process in Photo Mask Production
福井 聡, 風間 亨介, 小川 純, 佐藤 孝雄, 岡 徹雄 （新潟大）； 斉藤 君世, 反町 聡, 宮崎 紳介 （MTC）
Abstract:本研究では，半導体フォトマスク製造プロセスに用いるスピン処理装置にHTSバルクを用いた磁気浮上を適用し非接触化することにより，従来の機械軸受からの微粒子ダストの発生を抑えて，よりクリーンなマスク製造環境を実現することを目的とている。我々は，JST委託開発の支援を受けて，本装置の実用化に向けた研究開発を行っている。本報告では，実用化の第一ターゲットとしてのフォトマスク洗浄プロセスへの適用性を検証するため，プロジェクトで開発している試験装置の詳細，及びそれを用いた試験に関する速報を行う。