Purification of Chemical Plating Wastewater ; Removal of Nickel， Ammonium and Organic Acids by Self-Decomposition Process and Magnetic Activated Sludge Process
甘 強, 酒井 保藏 （宇都宮大）； 伊藤 繁則, 金井 悠輔 （栃木県産業技術センター）； 桑名 朗, 斉藤 哲男, 島津 義政, 鷹觜 勲 （桑名商事）； 鈴木 松雄, 安野 光則 （パルシステム）
Abstract:ニッケル化学めっきは複雑形状の素材や非電導性の材料への光沢めっきに欠かせない重要技術である。しかし、ニッケルイオン、還元剤としての次亜リン酸塩、亜リン酸塩、錯化剤としての有機酸、pH調製剤としてのアンモニアを高濃度に含む廃水を発生する。この廃水を、1）自己分解法によってニッケルイオンを金属として回収し、2）リン成分を水酸化カルシウムにより凝集沈殿させ、3）アンモニアストリッピング法によりアンモニアを除去し、4）磁化活性汚泥法により有機酸を分解することで汚泥発生を抑制した管理容易なめっき廃水無害化プロセスを構築する。実廃水をこの方法により処理した結果、有機酸の分解、窒素、リンを良好に除去できることが示された。