クラッド配向金属基板上に成膜した中間層の高性能化

Improvement of buffer layer fabricated on clad-type textured metal substrate


本田 貴裕, 新海 優樹, 阿比留 健志, 小西 昌也, 大松 一也 (住友電工)


Abstract:我々は、国家プロジェクトである「イットリウム系超電導電力機器技術開発」の一環として、超電導電力ケーブルに使用する線材開発を行っている。本発表では、線材のIc特性を左右する中間層の成膜工程において、改良を行った。改良後の中間層の表面平滑性は数nmオーダーで、優れた(100)結晶性を示した。さらにPLD法で作製したGdBCO超電導層のIc特性は、最高で500A/cmが得られ、数10mの長尺作製においても400A/cm以上の安定性能を得た。