Development of CeO2 buffer layer for coated conductors by RF-Sputtering process （2）
中西 達尚, 小泉 勉, 兼子 敦, 青木 裕治, 長谷川 隆代 （昭和電線）； 飯島 康裕, 齊藤 隆 （フジクラ）； 高橋 保夫, 和泉 輝郎, 塩原 融 （SRL）
t.nakanishi508*cs.swcc.co.jp
Abstract:Re-123系線材の中間層作製プロセスの開発において、RF-Sputter法による長尺CeO2膜の検討を行っている。昨年秋より大量製造に移行し、100m級CeO2中間層をIBAD-GZO基板上に複数作製した。これら長尺試料においても結晶粒面内配向性（Δφ）が6°以下の特性が得られることを確認した。また、作製したCeO2中間層上にTFA-MOD法によりYBCO膜を作製したところ、100m級長尺線材の全長にわたり300〜400A/cm-wの臨界電流値が得られており、良好な中間層が形成されていることが確認できた。