High throughput fabrication of interlayer for IBAD buffer layer structure
須藤 泰範, 花田 康, 羽生 智, 林田 知朗, 田下 千晴, 森田 克洋, 五十嵐 光則, 柿本 一臣, 朽網 寛, 飯島 康裕, 齊藤 隆 （フジクラ）
ysutoh*fujikura.co.jp
Abstract:我々は、IBAD-MgO層の作製の高速化を実現してきた。IBAD中間層構造における中間層製造速度のさらなる向上のために、成膜条件などの最適化検討を行った。詳細な結果は当日報告する。