In-plume PLD法によるGdBCO長尺線材の高速成膜

High-rate deposition of long length GdBCO coated conductor using in-plume PLD method


筑本 知子, リー セルゲイ, 衣斐 顕, 田辺 圭一 (SRL)
chiku*istec.or.jp


Abstract:イットリウム系テープ線材製造技術について、製造コスト低減化のため、パルスレーザー蒸着法(PLD法)での超電導層の製造速度の高速化を行う必要がある。
今まで、我々のグループでは、ターゲット-基板距離(T−S間隔)を短くすれば、原料供給量及び収率が増加するという単純な発想のもとに、レーザープルームの中に基板を保持して蒸着を行うin-plume PLD法を開発し、小型の装置を用いた短尺基板の蒸着において実際に成膜速度が従来の2〜3倍に向上することを確認し、報告してきた。
本学会においては、この成果を発展させ、200W大型レーザーを用いて、長尺化及び高速化を目的としてマルチプルーム・マルチターン(MPMT)成膜について検討を行った結果について報告する。