ホットウォール加熱式PLD装置による高特性RE123膜の高速成膜

High-speed deposition of high-quality RE123 films by hot-wall type PLD system


柿本 一臣, 五十嵐 光則, 花田 康, 林田 知朗, 森田 克洋, 田下 千晴, 羽生 智, 須藤 泰範, 朽網 寛, 飯島 康裕, 斎藤 隆 (フジクラ)
kkakimoto*fujikura.co.jp


Abstract:我々は、ホットウォール加熱式PLD装置により10mm幅でIc>1000AのRE123膜作製を実現している。しかし、その膜厚は約6μmと厚く、長尺線材作製における高速成膜および更なる高Ic化のための障害となっている。今回、成膜条件の最適化により高Jc化を図り、より薄い膜で高Ic膜を作製することを検討したので、その結果を当日発表する。