Measurements of remanent field distributions for Bi2223 tapes with Ca2CuO3 barriers using scanning Hall-probe magnetic microscopy
馬場 翔平, 稲田 亮史, 中村 雄一, 太田 昭男 （豊橋技科大）； 坂本 周作 （木更津工業高専）； 李 成山, 張 平祥 （西北有色金属研究院）
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Abstract:我々は，Bi2223線材の交流応用に向けて，フィラメント間に高抵抗バリア層を導入した低交流損失線材の作製と損失特性の評価を進めている。バリア線材は極めて複雑な線材構造を有するため，線材長に渡って通電特性および線材構造の均質性を簡便かつ非破壊に評価することが，バリア線材の品質保証および更なる特性向上を図る上で強く望まれる。
本研究では，移動型磁石を用いて磁化したバリア線材幅広面上の残留磁界分布を走査ホール素子顕微鏡により非破壊的に測定し，線材の均質性評価を試みた。フィラメント間に導入するバリア材には，Ca2CuO3（加工性改善のためBi2212粉末を少量混合）を用いた。測定に用いたホール素子の感磁面積は0.05mm×0.05mm，リフトオフは0.5mmであり，試料面上でホール素子を2次元走査しながら試料面に対して法線方向の磁界成分を検出する。同一工程で作製した非バリア線材の測定結果と比較し，バリア導入が通電特性およびその均質性におよぼす影響を検討した。