Nd:YA-PLD法を用いて金属基板上に作製したY123薄膜の超伝導特性

Superconducting properties of Y123 films prepared by Nd:YAG-PLD method on metal substrate


一野 祐亮, 吉田 隆, 吉村 拓也, 高井 吉明 (名大); 吉積 正晃, 和泉 輝郎, 塩原 融 (SRL)
ichino*nuee.nagoya-u.ac.jp


Abstract:Nd:YAGレーザーを用いたPLD法は、従来のエキシマPLD法よりも導入コストやランニングコストが安価であり、有毒ガスを使用しないなど環境負荷も小さい成膜手法である。我々はこれまで、単結晶基板上ではあるが、Nd:YAG-PLD法を用いて作製したY123薄膜がエキシマPLD法と遜色ない超伝導特性を示すことを明らかにしてきた。
本報告では、コーテッドコンダクターへの適用に向けて、IBAD基板上へのY123薄膜の作製および高Ic化に向けた厚膜試料の作製を行った。その結果、IBAD基板上でTc〜90 K、Jc >1 MA/cm2のY123薄膜が得られた。また、2ミクロン厚の試料においてもa軸配向粒が生じず、c軸配向を維持する結果が得られた。
現在、磁場中Jcと併せて、厚膜でもa軸配向が生じないメカニズムに関しても検討を行っている。