交差した柱状欠陥を導入したYBCO薄膜の臨界電流密度の磁場角度依存性

Angular dependences of critical current densities in YBCO thin films with crossed columnar defects


末吉 哲郎, 十河 雄大, 米倉 健志, 足立 明隆, 藤吉 孝則, 光木 文秋, 池上 知顯 (熊本大); 石川 法人 (原子力機構); 淡路 智, 渡辺 和雄 (東北大)
tetsu*cs.kumamoto-u.ac.jp


Abstract:PLD法によるYBCO薄膜の作製において,Baを含むペロブスカイト構造の酸化物を混入することにより容易に1次元ピンを導入できることから,そのピンニング特性に関心が高まっている.本研究では,重イオンの照射方向を制御することで,交差した1次元ピンをYBCO薄膜に導入し, その臨界電流密度の磁場角度依存性について調べた.臨界電流密度の磁場角度依存性において,交差角が小さい試料では,7Tまでの磁場範囲で照射方向付近に一つのピークのみ現れた.一方,交差角が±45度の試料では,低磁場において一つのピークであるが,マッチング磁場付近においては照射方向±45度で二つのピークに変化した.