IBAD-MgO基板及びCeO2/GZO基板上での高IcGdBCO層の作製

Fabrication of GdBCO layers with high Ic by using PLD method on IBAD-MgO and CeO2/GZO substrates


衣斐 顕, 宮田 成紀, 栗木 礼二, 福島 弘之, 吉積 正晃, 木下 晶雄, 山田 穣, 塩原 融 (SRL)
ibi*istec.or.jp


Abstract:長尺GdBCO層は,YBCO層と比較して磁場中での高Ic化・製造速度の向上等が可能であることから現在注目されている材料である.我々はGdBCO層を厚膜化することで,より高Icの線材の作製を可能にし,更に高製造速度化・低コスト化に対して非常に期待されているIBAD-MgO基板上にGdBCO層の成膜を行った.今回,数十m級のIBAD-MgO基板上にGdBCO層を成膜し高特性が得られたので報告します.