Y系線材用高速IBADプロセスの開発

Development of high speed IBAD process for long coated conductors


吉積 正晃, 福島 弘之, 宮田 成紀, 衣斐 顕, 山田 穣, 和泉 輝郎, 塩原 融 (SRL)
myoshizumi*istec.or.jp


Abstract:Y系線材は次世代の線材として特に超電導電力機器の分野で実用化への期待が大きい。近年の研究開発により特性は大きく向上し、実用化に必要な仕様を満足しつつあるが、現状では線材の製造速度が遅く、機器開発に必要な線材量の不足とコストの面から、大きな問題となっている。製造速度に関してはIBAD法による中間層成膜がボトルネック(律速過程)となっていた事から、本研究では従来のIBADとは異なる高速IBAD成膜が可能となる材料を用いてIBADプロセスの高速化に成功し、50m線材を作製してその特性を評価した。結果として50m長基板の両端でともに高度の結晶粒配向性(4度以下のΔφ)を達成し、超電導特性も良好であった。発表ではプロセスの特徴、成果について議論、考察する。