低磁性基板を用いた中間層の開発

Development of buffer layer on low magnetic substrate

太田肇, 小西昌也, 新海優樹, 永石竜起, 種子田賢宏, 本田元気, 加藤武志（住友電工）
ota-hajime*seiss.co.jp

Abstract:低磁性の配向金属基板を使用した中間層の開発状況について報告する。併せて中間層の高速化についても報告する。また、低磁性基板に高速作製した中間層上の超電導特性についても紹介する予定である。