ボックス回転型低温6元対向スパッタによる超伝導トンネル接合用ニオブ薄膜の特性

Characteristics of Nb film for STJ fabricated by a newly rotating box type multi-facing target sputtering


諸橋 信一, 波多野 雅也, 河野 佑介, 磯部 尚紀, 永田 省吾 (山口大)
smoro*yamaguchi-u.ac.jp


Abstract:高機能・高性能な電磁波検出器用超伝導トンネル接合(STJ素子)を作製するために,新型のボックス回転型多元対向スパッタ(BFTS)を新たに開発した。その特徴は,(a)磁石の高機能な配置によるマルチターゲット化で,かつ高プラズマ密度化,(b)基板にγ電子や反跳アルゴンが入りにくいために低温スパッタ,(c)マルチターゲット化で,カソード容積・ランニングコストが従来型対向ターゲットスパッタの約1/2以下でコンパクト化・省エネ化,である。グローブボックス付試料交換室+トンネルバリア形成室+スパッタ室の3室構成になって,スパッタ室は対向する6角柱のカソードにより計6層の薄膜作製が可能である。STJ電極のNb薄膜は,超伝導転移温度Tcが 約9.3 K,残留抵抗比は4.5で,このときの基板温度は50℃以下を示した。不純ガスの取り込みの小さな高品質なNb薄膜が低温で作製できていることを示している。