A relation between c-axis correlated pinning and irreversibility field for RE123 films
難波 雅史, 淡路 智, 渡辺 和雄 （東北大）； 甲斐 英樹, 向田 昌志 （九大）； 岡安 悟 （原子力機構）
baji*imr.tohoku.ac.jp
Abstract:我々はこれまで，それぞれｃ軸相関ピンとして，重イオン照射柱状欠陥，BaMO3（M ＝ Zr， Sn）ナノロッド，刃状転位を有するRE123薄膜について臨界電流密度の角度依存性を評価し，相関ピンの種類で磁束固体領域において磁束ピンニング状態が異なることを報告してきた．今回は，電気抵抗率，及び不可逆磁場近傍の臨界電流密度とｃ軸相関ピンの関連について相関ピンの種類から議論する．