人工ピンを導入したREBCO薄膜の磁束ピンニング特性

Flux pinning properties of REBCO thin films with artificial pinning centers

藤吉 孝則 ， 末吉 哲郎 ， 梶田 龍 ， 米倉 健志 ， 渡邊 昌貴 （熊本大）； 向田 昌志 ， 寺西 亮 ， 甲斐 英樹 （九大） ； 松本 要 （九工大） ； 吉田 隆 （名大） ； 一瀬 中 （電中研） ； 堀井 滋 （東大）
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Abstract:　 REBCO薄膜の磁場中における臨界電流密度向上のために，ナノ組織制御によって薄膜中に人工的にデザインされた人工ピンの導入を行うことが盛んに行われている．本研究では， PLD法で作製されたREBCO薄膜に１次元の人工ピンを導入し，その薄膜の臨界電流密度の印加磁場角度依存性や電流ー電圧特性を測定した．電流ー電圧特性から得られたピンニングパラメータの磁場依存性から，母材による違いや１次元ピンの違いについて議論する．