第３高調波電圧誘導法に対する磁束線可逆運動の膜厚依存性

Film thickness dependence of reversible fluxoid motion in third-harmonic voltage

二村 宗男 （秋田県立大） ； 吉田 貴昭 ， 木内 勝 ， 小田部 荘司 ， 松下 照男 （九工大） ； 小西 哉 （信州大）； 宮田 成紀 ， 衣斐 顕 ， 山田 穣 ， 塩原 融 （SRL）
futamura*akita-pu.ac.jp
Abstract:　 超伝導薄膜の臨界電流値Jcを評価する手法の１つとして第3高調波電圧誘導法があるが，膜厚が非常に薄い場合は磁束線可逆運動の影響によってJcが過大評価されてしまう．Jcを精確に求めるための磁束線可逆運動を表すものとしてCampbellモデルを元にした解析を行ってきたが，これまでは実測値のJc過大評価を説明することはできなかった．本研究では磁束線可逆運動を表現する解析モデルを提案し，膜厚の異なる解析を行うことで，磁束線可逆運動の影響について考察を行った．