MOD法およびBaF2プロセスにより製作したRE123膜の臨界電流密度特性

Critical current density properties of RE123 films fabricated by MOD process and BaF2 process

渡辺 修平 ， 三浦 大介 ， 伊藤 大佐 （首都大） ； 喜多 隆介 （静岡大）
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Abstract:　 MOD法およびBaF2プロセスにより製作するRE123膜へのAPC導入を検討した。測定方法は磁化測定装置SQUID磁力計による磁化測定と、四端子法による臨界電流測定を行い、試料の性能を評価した。また、四端子法による測定では試料の角度を変化させ、臨界電流密度の磁場角度依存性を評価した。