微細加工により導入した溝状ピンニングセンターの磁化緩和特性II
Magnetic relaxation properties of artificial pinning centers introduced by microfabrication II.
原田 直幸
，何 継方，安田 俊朗，内藤 裕志（山口大）
naoyuki@yamaguchi-u.ac.jp
Abstract: 微細加工を用いてNb膜に加工周期が4μmの溝状とホール状の2種類の人工ピンニングセンターを導入した。これらの人工ピンを導入したNb膜の増磁及び減磁過程の磁化緩和特性から、人工ピンの形状と磁化緩和特性の関係について、実験結果と検討結果を報告する。